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氧含量檢測

產(chǎn)品描述:

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晶片在生產(chǎn)過程中,原本大氣中O2會和Si產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)得O2+Si=SiO2(二氧化矽)為原始的氧化層,如果管路的氧含量過高,原始的氧化層會超出原本已計(jì)算好的厚度,如此會嚴(yán)重影響接下來各階段的制程。